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离线法生产Low-E玻璃,目前***上普遍采用真空磁控溅射镀膜技术。所谓真空磁控溅射镀膜,是在10-1帕数量级的真空环境中,通入适量的工艺气体(惰性气体Ar或反应气体O2、N2),并保持真空度稳定。将靶材Ag、Si等嵌入阴极,并在与阴极垂直的水平方向置入磁场从而构成磁控靶。以磁控靶为阴极,加上直流或交流电源,在高电压的作用下,工艺气体发生电离,形成等离子体。其中,电子在电场和磁场的共同作用下,进行高速螺旋运动,碰撞气体分子,山东泰安Low-E玻璃厂家产生更多的正离子和电子;正离子在电场的作用下,达到***的能量后撞击阴极靶材,被溅射出的靶材沉积在玻璃基片上形成薄膜。
膜层中主要功能膜层一般为银(Ag)膜,其它膜层为辅助膜,起加强连接、保护主膜等作用。依据Ag膜的不同又可细分为单Ag,双Ag及单Ag改进型等几种不同产品大类,Low-E玻璃有丰富多彩的颜色供选用。